Czyszczenie plazmowe to sprawdzona, skuteczna, ekonomiczna i bezpieczna dla środowiska metoda krytycznego przygotowania powierzchni.Czyszczenie plazmowe plazmą tlenową eliminuje naturalne i techniczne oleje i smary w skali nano oraz zmniejsza zanieczyszczenie nawet 6-krotnie w porównaniu z tradycyjnymi metodami czyszczenia na mokro, w tym same pozostałości po czyszczeniu rozpuszczalnikami.Powoduje czyszczenie plazmowenieskazitelna powierzchnia, gotowa do klejenia lub dalszej obróbki, bez żadnych szkodliwych odpadów.

Jak działa czyszczenie plazmowe

Światło ultrafioletowe generowane w plazmie jest bardzo skuteczne w rozbijaniu większości wiązań organicznych zanieczyszczeń powierzchniowych.Pomaga to rozbić oleje i smary.Drugie działanie czyszczące realizowane jest przez energetyczne formy tlenu powstałe w plazmie.Gatunki te reagują z zanieczyszczeniami organicznymi, tworząc głównie wodę i dwutlenek węgla, które są w sposób ciągły usuwane (wypompowywane) z komory podczas przetwarzania.

Jeśli ta część ma byćOczyszczona plazma składa się z substancji łatwo utlenionychzamiast tego stosuje się materiały takie jak srebro lub miedź, gazy obojętne, takie jak argon lub hel.Aktywowane plazmą atomy i jony zachowują się jak molekularny piaskowanie i mogą rozkładać zanieczyszczenia organiczne.Zanieczyszczenia te są ponownie odparowywane i usuwane z komory podczas przetwarzania.